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    HVPE單晶生長設備(立式/臥式)
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    發布日期:2020-08-21
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    詳細介紹

    產品概述:

    ●用于氮化鎵(GaN)單晶生長

    用于氧化鎵(Ga2O3)、氮化鋁(AlN)、磷化銦(InP)外延生長



    產品特點:

    基礎工藝包

    1.氮化鎵(GaN)單晶生長尺寸:2英寸

    2.單晶生長速率:≥50微米/小時

    3.藍寶石村底外延生長氮化鎵(GaN)單晶層厚度:<200微米

    襯底:2/4/6英寸

    數量:1片/多片

    立式/臥式結構合理可靠,滿足客戶多種尺寸襯底,多種操作方式需要

    控溫精度高,溫區穩定性好

    完美可靠的安全保護功能:硬件保護+軟件互鎖


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