產品概述：
●快速退火爐是利用紅外熱輻射實現快速加熱的一種半導體熱處理工藝設備。通過燈光輻射型熱源功率控制模塊裝置和專用燈組對位于工藝腔體的半導體硅片進行快速加熱來實現穩定的升溫過程。
產品特點：
●溫度控制精度高、重復性好
●干凈清潔的工藝腔體
●用戶可根據要求定制工藝氣體,最多可配置6路氣體
●工藝過程計算機全自動控制
●樣品尺寸：2-6英寸
●升降溫速率：0-100℃/S可控
